一、產品(pin)特(te)性:
1、可在(zai)同一儀(yi)器上(shang)實現(xian)多種測(ce)量功能，真正(zheng)意義上(shang)的萬能摩(mo)擦(ca)磨損(sun)測(ce)試；
2、符合ASTM3702，ASTM G99與ASTM G133等國際標(biao)準；
3、用于(yu)進行實時(shi)監測摩(mo)擦系數(shu)曲(qu)線；
4、有旋轉，線性往復，環-塊，環-環四種工作模式；
5、采用位置譯碼器(qi)(qi)與(yu)速度譯碼器(qi)(qi)可準確(que)控制馬達控制速度與(yu)位置；
6、可測量靜摩擦系(xi)數及(ji)Stribeck曲線；
7、*大(da)載荷(he)：100N；
8、轉度：0.01-5000rpm，15000rpm可選(xuan)；
9、密封(feng)式裝置，可以控制(zhi)環境，如(ru)：氣體、濕度、潤滑(hua)等；
10、高溫模式選件，*高可測1100℃環(huan)境(jing)下(xia)的摩(mo)擦磨損；
11、實時(shi)接觸電阻(zu)測量選件可(ke)提(ti)供接觸電阻(zu)測試(shi)
12、表面形貌測(ce)試模塊選件用于(yu)測(ce)量磨損(sun)率(lv),磨損(sun)前后二(er)維表面形貌、磨損(sun)面積(ji)、磨損(sun)率(lv)、磨損(sun)深(shen)度、平(ping)整度、線粗(cu)糙度參數(shu)（Ra，Rp，Rv，Rz，Rc，Rt，Rq，Rsk，Rku，）等表面參數(shu)
13、原位電(dian)化學工(gong)作(zuo)站選件，搭配普林斯頓(dun)的(de)電(dian)化學工(gong)作(zuo)站進(jin)行摩(mo)擦腐蝕方向的(de)研(yan)究。
14、真空模(mo)塊選件，可實(shi)現(xian)真空環境下(xia)的摩擦磨損測試。
15、低溫(wen)模(mo)塊選件，可實現低溫(wen)-150℃下的(de)摩擦磨損測試.
二、產品應用
|
半導體技術：
·鈍化(hua)層
·金屬涂敷
·焊墊
醫療(liao):
·藥片
·植入物(wu)
·生物(wu)組織
光(guang)學元件：
·棱鏡
·光纖
·光學元件涂層(ceng)
·高容量光存(cun)儲：
·磁盤涂層
·CD涂(tu)層
·薄膜
|
耐(nai)磨材料涂層：
·TiN,
TiC, DLC
·切削(xue)工具
工程(cheng)：
·橡膠
·觸摸屏
·涂層
微電子器(qi)件系統(tong)
裝潢金屬涂層
汽車：
·噴(pen)漆(qi)涂層
·玻璃印刷層
·汽車精加工部(bu)件
|
三、技術參數
主機參數：
|
參數
|
旋(xuan)轉模(mo)式(shi)
|
|
載荷(he)范圍
|
50mN-100N
|
|
載荷(he)分辨率
|
6μN
|
|
旋轉速度
|
0.01-5000rpm/0.05-15000rpm
|
|
*大扭(niu)矩(ju)
|
4.4Nm
|
|
*大(da)摩擦力(li)
|
+/-100N
|
|
摩擦力分(fen)辨(bian)率(lv)（理(li)論）
|
6μN
|
|
X軸自動(dong)控制范圍
|
50mm
|
|
X軸半徑分辨率
|
2.5μm
|
|
儀器(qi)尺寸
|
65cm×52cm×65cm
|
|
重量(liang)
|
約70Kg
|
|
盤(pan)尺寸
|
100mm
|
|
接觸探頭
|
可選(xuan)針型、球形與(yu)銷型
|
|
線性(xing)往復模式
|
|
*大振(zhen)幅
|
25mm
|
|
*大掃(sao)描頻率
|
60Hz@5mm沖程
|
|
潤滑控制系統（可選(xuan)）
|
|
液體(ti)消耗率
|
60-90cm3/hour
|
|
液體容量
|
120ml
|
|
液體(ti)(ti)容器
|
包含
|
|
高溫測量系統（可選）
|
|
箱體溫(wen)度（旋轉模式）
|
1100℃
|
|
加(jia)熱片（線掃描模(mo)式）
|
800℃
|
|
液體加(jia)熱模式
|
150 ℃
|
|
分辨率(lv)
|
1℃
|
|
低溫模塊（可選）
|
|
-40℃/-150℃
|
|
深度傳感器(qi)（可選）
|
|
*大(da)位移(yi)量
|
2000μm
|
|
分辨率
|
0.1nm
|
|
接觸電(dian)阻（可(ke)選）
|
|
*大阻抗
|
0-1000
Ohms
|
表面形貌儀(yi)模塊技(ji)術參數：
NANOVEA公司提供兩種光學測(ce)量探頭可供用戶選擇：
EP110(用于磨損較淺的情況)光學測量探頭(tou)的技(ji)術(shu)參數如(ru)下：
1) Z方向測量范圍：100μm
2) Z方向測量分辨率：20nm
3) Z方向測(ce)量(liang)精(jing)度：50nm
4）橫向光學分辨率(lv)：3μm
5）光斑直徑：6μm
6)工作距離：1mm
EP1500(用于磨(mo)損較深的(de)情(qing)況)光學測量探頭的(de)技術(shu)參數(shu)如下：
1) Z方(fang)向測量(liang)范(fan)圍：1.5mm
2) Z方向(xiang)測量分(fen)辨率(lv)：200nm
3) Z方向測量(liang)精度：300nm
4）橫向光學分辨率：3.5μm
5）光斑直(zhi)徑：7μm
6)工作距離：2.3mm